Višelučne mete od metala visoke čistoće

Višelučne okrugle mete od metala i legure

1. Čistoća: 2N8,3N,3N5.4N,4N5,5N

2. Tehnika i površina: kovana, brušena, sjajna svijetla površina, HIP

3. Oblik/oblik: Kružni/ravni/cijevasti/Okrugli/Ploča/Cijev, Izrađen po narudžbi prema crtežu

4. Veličina:

Okrugli promjer: 60~1000mm, debljina: 10~1500mm

Debljina ploče (15~30)*širina (50~1500)*duljina (100~2000)mm

Promjer cijevi: 20 ~ 300 mm, debljina: 5 ~ 60 mm, duljina: 50 ~ 2000 mm

Ostalo povezano

Plosnati/okrugli metalni materijal visoke čistoće 99,99% do 99,995 Krom Cr raspršena meta

Metal: Ti, Ni, Cu, Co, Cr, Al, Fe, V, Zn, Sn, W, Mo, Ta, Nb, Zr, Hf, Ge, Bi, Sb, Mg, Mn itd.

Mete od metalnih legura: Mo, Zr, Ta, Nb, NbZr, Ni, Si, Sn, NiGr (8:2), NiGr (95:5), NiV, NiCu, NiCr, NiFe, TiAl, AlCr, SiAl, CoFe, CoCr, VFe, TiCr, TiV, NiTi, NbTi, WTi, WCu, SiGe, CoTaZr, CuNiMn itd. posebne legure mogu se prilagoditi.

Mete za rijetke zemlje: Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Nd, Sm, Er, Tm, Yb i druge legure mogu se prilagoditi.

Metali visoke čistoće: Ni, Ti, Al, V, Co, Cu, Ta, Nb, W, Mo, Cr, Ag, Au itd.

Metalni lončić: W, Mo, Ta, Nb, Cu itd
Metalni konus: Ni, Ti, Co, Cr, Ta, Nb, W, Mo itd.

Primjena

Cilj se odnosi na izvor raspršivanja koji može raspršiti različite funkcionalne tanke filmove na supstrat (staklo, PET, itd.) pod odgovarajućim procesnim uvjetima putem magnetronskog raspršivanja, ionskog nanošenja s više lukova ili drugog sustava premazivanja.

Sustav magnetronskog raspršivanja postavlja Gaussov snažni magnet iza negativne mete, a vakuumska komora je ispunjena određenom količinom inertnog plina (Ar) kao nosačem pražnjenja. Pod djelovanjem visokog tlaka atomi Ar ioniziraju se u Ar+ ione i elektrone, što rezultira plazma tinjajućim pražnjenjem. Tijekom ubrzanja leta do podloge, na elektrone djeluje magnetsko polje okomito na električno polje, koje skreće elektrone i veže se za površinu blizu mete. U području plazme elektroni spiralno napreduju uz ciljnu površinu i neprestano se sudaraju s atomima Ar tijekom kretanja, ionizirajući veliku količinu Ar+ iona. Nakon višestrukih sudara, energija elektrona postupno opada, oslobađajući se linija magnetske sile, i konačno pada na podlogu, unutarnju stijenku vakuumske komore i ciljni izvor.

Popularni tagovi: